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J-GLOBAL ID：200903073793708958

逆ミセル分散系を用いてなるシリカナノ粒子の製造方法、該方法により得られたシリカナノ粒子、及びそれを用いた標識試薬

Inventor：
高木 智洋

About 高木 智洋

, 
大久保 典雄

About 大久保 典雄

, 
會澤 英樹

About 會澤 英樹


Applicant, Patent owner：
古河電気工業株式会社

About 古河電気工業株式会社


Agent (3)： 飯田 敏三 ,  佐々木 渉 ,  宮前 尚祐
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007120085
Publication number (International publication number)：2008273790
Application date： Apr. 27, 2007
Publication date： Nov. 13, 2008
Summary：
【課題】粒度分布の幅の狭く、平均粒径がnmオーダー(例えば、100nm以下)のシリカナノ粒子を廉価かつ高収率で製造する製造方法、及びそれにより製造されるシリカナノ粒子を提供する。測定結果の再現性に優れる、極微量標的試料の高感度分析が可能な標識試薬を提供する。【解決手段】疎水性溶媒中の界面活性剤、塩基性電解質を含有する水及び親水性有機溶媒からなる逆ミセル分散系に、シランカップリング剤を添加し、前記水により前記シランカップリング剤を加水分解して、シリカモノマーを重合させ、シリカナノ粒子を形成する、シリカナノ粒子の製造方法。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
疎水性溶媒中の界面活性剤、塩基性電解質を含有する水及び親水性有機溶媒からなる逆ミセル分散系に、シランカップリング剤を添加し、前記水により前記シランカップリング剤を加水分解して、シリカモノマーを重合させ、シリカナノ粒子を形成することを特徴とする、シリカナノ粒子の製造方法。
IPC (1)：
C01B 33/18
FI (1)：
C01B33/18 Z
F-Term (15)：
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072DD06 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ47 ,  4G072KK03 ,  4G072MM01 ,  4G072MM21 ,  4G072MM23 ,  4G072TT01 ,  4G072TT02 ,  4G072UU30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
  • 微粒子合成方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-238705   Applicant：日本メクトロン株式会社
  • EP1036763B1公報
Cited by examiner (8)
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