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J-GLOBAL ID：200903073827104178

電子ビーム露光装置

Inventor： 小野 治人
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997255117
Publication number (International publication number)：1999097331
Application date： Sep. 19, 1997
Publication date： Apr. 09, 1999
Summary：

【要約】【課題】 ウエハに形成されるパターンの「ぼけ」を抑え、光電変換面の劣化を防止し、光電変換面の有効利用を図る。【解決手段】 電子ビーム露光装置1は、パターン(不図示)が形成されたレチクルマスク14に紫外光6を照射してパターンを投影する紫外光照明部2と、レチクルマスク14を透過した紫外光6を電子ビーム24に変換する光電変換面21が備えられた光電変換部18と、電子ビーム24をウエハ30上に照射させ、前記のパターンをウエハ30に投影露光する電子ビーム露光部3とを有する。光電変換面21の下面には、光電変換面21から出射された電子ビーム24を通過させる円弧状の開口部22aが形成された導電部材板22が設けられている。

Claim (excerpt)：

パターンが形成されたレチクルマスクに紫外光を照射して前記パターンを投影する紫外光照射部と、前記レチクルマスクを透過した紫外光を電子ビームに変換する光電変換手段と、前記光電変換手段から出射された電子ビームをウエハ上に照射させ、前記レチクルマスクと前記ウエハとを同期移動させて前記パターンを前記ウエハに投影露光する電子ビーム露光部とを有する電子ビーム露光装置において、前記光電変換手段の前記紫外光が照射される面の裏面に、前記電子ビームを通過させるための開口部を有する導電部材板部が接触された状態で設けられていることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 541 A ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 S