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J-GLOBAL ID：200903073837927490

光導波路の製造方法

Inventor： 佐藤 信之
Applicant, Patent owner： 京セラケミカル株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002325405
Publication number (International publication number)：2004157470
Application date： Nov. 08, 2002
Publication date： Jun. 03, 2004
Summary：

【課題】伝送損失の低減および生産性の向上が可能な光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】マスター基板上に形成された光導波路パターン用の凹部を蓋で覆い、凹部内に液状のコア材を注入、硬化させてコア層を形成した後、マスター基板から蓋を剥離する。光導波路パターン用の凹部にコア材を注入し硬化することで、コア層をマスター基板からの転写で形成することができ、光導波路の効率よい製造が可能となる。さらに、光導波路パターン用の凹部を蓋で覆った状態で凹部内にコア材が注入されることから、コア材が凹部から漏れ出して伝送効率の低下を招くことが防止される。【選択図】 図2

Claim (excerpt)：

マスター基板上に形成された光導波路パターン用の凹部を蓋で覆う被覆工程と、 前記蓋で覆われた凹部内に液状のコア材を注入する注入工程と、 前記注入工程で前記凹部内に注入されたコア材を硬化させてコア層を形成するコア層形成工程と、 前記マスター基板から前記蓋を剥離する剥離工程と、 を具備することを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (1)：

G02B6/13

FI (1)：

G02B6/12 M

F-Term (11)：

2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA26 ,  2H047PA28 ,  2H047QA02 ,  2H047QA04 ,  2H047QA05 ,  2H047TA31 ,  2H047TA42