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J-GLOBAL ID：200903073838228634

液面上層の浮揚汚物の吸収濾過装置

Inventor： 稲葉 憲造
Applicant, Patent owner： 稲葉 憲造
Agent (1)： 大島 泰甫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993290158
Publication number (International publication number)：1995136647
Application date： Nov. 19, 1993
Publication date： May. 30, 1995
Summary：

【要約】【目的】本発明は液面上に浮揚している汚物の処理を目的とし、その装置としては、応用範囲の広い、且つ製作の容易な装置を提供することを目的としたものである。【構成】本発明の構成は中央に液面Aに浮揚している汚物を吸収濾過する本体1を設け、その外周に複数の外部フロート2・・を備え、且つ、装置全体の浮力を調整し得るようになし、更に、本体1内にも内部フロート11を設け、一定量以上の流入を防止し得る構成となし、前記浮揚汚物を本体1内に自然流入させ、これを濾過器3内に収納して濾過し、処理した液体を再度液中に還流させるように構成したものである。

Claim (excerpt)：

中央に液面に浮揚している汚物を吸収濾過する本体を設け、その外周に複数の外部フロートを備え、装置全体の浮力を調整し得るようになし、更に本体内にも内部フロートを設け、一定量以上の流入を防止し得る構成となし、前記浮揚汚物を本体内に自然流入させ、これを濾過器内に収納して処理し、浮揚汚物を処理した液体をポンプによって、再度液中に還流し得る構成としたことを特徴とする液面上層の浮揚汚物の吸収濾過装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• プールの浮遊物回収装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-214353   Applicant：原ヘルス工業株式会社
• 電極基板及び記録媒体の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-202254   Applicant：キヤノン株式会社
• 特開昭50-066868