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J-GLOBAL ID:200903073854688181

メカニカルポンプ

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 木下 茂 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996315524
Publication number (International publication number):1998141263
Application date: Nov. 12, 1996
Publication date: May. 26, 1998
Summary:
【要約】【課題】 メカニカルポンプの吸入側及び吐出側に不活性ガスを供給し、この不活性ガスによってポンプ構成部材の腐食を防止すると共に、反応物質の生成を防止する。【解決手段】 減圧中で有毒ガスまたは腐食性ガス等を放出する半導体素子の製造工程等の処理工程に用いられるメカニカルポンプAにおいて、ロータと、前記ロータを収納したケーシングa3によって形成された気体の吸入ポートa7及び吐出ポートb8と、前記吸入ポートa7側に不活性ガスを供給する供給口a15及び吐出ポートb8側に不活性ガスを供給する供給口b5とを備える。そして、不活性ガスを前記供給口から吸入ポートa7を介してポンプ内部に供給すると共に、前記供給口b5から不活性ガスを供給することによってポンプ内部に外部の空気が侵入するのを防止し、腐食性ガスと空気中の水分との反応を抑制し、構成部材の腐食及び反応物質の生成を防止する。
Claim (excerpt):
減圧中で有毒ガスまたは腐食性ガス等を放出する半導体素子の製造工程等の処理工程に用いられるメカニカルポンプにおいて、ロータと、前記ロータを収納したケーシングによって形成された気体の吸入ポート及び吐出ポートと、前記吸入ポート側に不活性ガスを供給する供給口とを備え、不活性ガスを前記供給口から吸入ポートを介してポンプ内部に供給するように構成したことを特徴とするメカニカルポンプ。
IPC (2):
F04C 18/16 ,  F04C 25/02
FI (2):
F04C 18/16 Z ,  F04C 25/02 M
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開昭63-106389
  • 特開平2-175855
Cited by examiner (2)
  • 特開昭63-106389
  • 特開平2-175855

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