Pat

J-GLOBAL ID：200903073877885936

偏光光学素子

Inventor： 佐藤 晃
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995319622
Publication number (International publication number)：1997049924
Application date： Nov. 13, 1995
Publication date： Feb. 18, 1997
Summary：

【要約】【課題】 光路設計の自由度が高い偏光ビームスプリッタを提供する。【解決手段】 ガラス基板12上に、二種類の光学異方性媒体から成る膜10、11を1層づつ積層したものを1周期として、複数周期積層させる。各膜の光学的膜厚は、S偏光に対し目的とする波長の4分の1の近傍とされる。このとき、P偏光に対しては光学的膜厚が4分の1波長とならない。これにより、左方向からの垂直入射光に対し、S偏光をほぼ完全に反射しP偏光を僅かしか反射しないような光学特性を得ることができる。

Claim (excerpt)：

偏光を利用することにより光に対する操作を行なうための偏光光学素子において、互いに屈折率の相違する第1及び第2の光学異方性媒体から成る膜を各1層づつ重ねた2層膜を1周期として、基板上に複数周期積層する構造を有し、前記第1及び第2の光学異方性媒体の光学的膜厚、すなわち物理的膜厚に特定の偏光成分に対する当該媒体の屈折率を乗じた値が、所望の波長のそれぞれ4分の1の近傍であることを特徴とする偏光光学素子。