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J-GLOBAL ID：200903073974788040

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

Inventor： ヘンドリクス ヘルマン マリー コックス ,  フランク アオアー ,  マルク ヴィルヘルムス マリア ヴァン デル ヴィユスト ,  バスティアーン ステファヌス ヘンドリクス ヤンセン ,  ドミニカス ヤコブス ペトリュス アドリアヌス フランケン
Applicant, Patent owner： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002367679
Publication number (International publication number)：2003203860
Application date： Dec. 19, 2002
Publication date： Jul. 18, 2003
Summary：

【要約】【課題】 リソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】 反応質量14、54、64およびアクチュエータ15、55、65を使用して、リソグラフィ投影装置の投影系中の光学エレメント10、50、60の望ましくない振動を低減させる。反応質量14、54、64は、光学エレメント50、60のみに機械的に接続することも、投影系フレーム11にコンプライアントに取り付けることもできる。

Claim (excerpt)：

投影放射線ビームを供給する放射系と、所望のパターンに従って投影ビームをパターン形成する働きをするパターン形成手段を支持する支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影系とを含むリソグラフィ投影装置であって、前記投影系および放射系の少なくとも一方が、少なくとも1自由度で移動可能な反応質量にアクチュエータによって接続された少なくとも1つの光学エレメントを含み、該アクチュエータによって反応質量と光学エレメントの間に加えられる力を使用して、1自由度または多自由度で光学エレメントの位置を制御することを特徴とするリソグラフィ投影装置。

FI (2)：

H01L 21/30 503 F ,  H01L 21/30 531 A

F-Term (6)：

5F046AA23 ,  5F046CB02 ,  5F046CB12 ,  5F046CB20 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01