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J-GLOBAL ID：200903073974890960

スルホニウム塩及びその用途

Inventor：
釜淵 明

About 釜淵 明

, 
荒木 香

About 荒木 香


Applicant, Patent owner：
住友化学工業株式会社

About 住友化学工業株式会社


Agent (1)： 久保山 隆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002347574
Publication number (International publication number)：2003231673
Application date： Nov. 29, 2002
Publication date： Aug. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】新規なスルホニウム塩を提供するとともに、これと樹脂成分とを含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適し、感度とレジスト形状とのバランスがよい化学増幅型のポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(1)下式(I)で示されるスルホニウム塩。(式中、Q1、Q2及びQ3は、3つが同一であることはなく、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。Q4、Q5は、互いに独立に炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基を表す。)(2)酸に不安定な基を持つ重合単位を有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂と、前記(1)に記載のスルホニウム塩とを含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。(3)式(I)記載の化合物と増感剤を含有する重合開始剤組成物。
Claim (excerpt)：
下式(I)で示されるスルホニウム塩。(式中、Q1、Q2及びQ3は、3つが同一であることはなく、互いに独立に、水素、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。Q4、Q5は、互いに独立に炭素数1〜8のパーフルオロアルキル基を表す。)
IPC (7)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C08F 20/12 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (7)：
C07C381/12 ,  C07C311/48 ,  C08F 20/12 ,  C08F 20/28 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (28)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB40 ,  4H006AB78 ,  4H006TN50 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100JA37 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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