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J-GLOBAL ID：200903074027035808

着色画像形成用レジスト組成物

Inventor： 穂積 滋郎 ,  中川 弘也
Applicant, Patent owner： 住友化学工業株式会社
Agent (1)： 久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997289528
Publication number (International publication number)：1999125902
Application date： Oct. 22, 1997
Publication date： May. 11, 1999
Summary：

【要約】【課題】 310nm以下の波長の光を十分に透過しないマスクを使用しても、十分な感度を有し、かつ光透過率が高くて透明な着色画像を与えるレジスト組成物を提供する【解決手段】 (A)顔料、(B)カルボキシル基含有共重合体、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始剤、及び(E)溶剤を含有する着色画像形成用レジスト組成物において、その光重合開始剤の少なくとも一部として、下式(I)で示されるフォスフィンオキシド化合物を用いる。式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 及びR9 は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数1〜4のアルコキシを表す。

Claim (excerpt)：

(A)顔料、(B)カルボキシル基含有共重合体、(C)光重合性モノマー、(D)光重合開始剤、及び(E)溶剤を含有するレジスト組成物であって、該光重合開始剤が、式(I)(式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 及びR9 は互いに独立に、水素、炭素数1〜4のアルキル又は炭素数1〜4のアルコキシを表す)で示されるフォスフィンオキシド化合物を含有することを特徴とする着色画像形成用レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/029 ,  C08F 2/50 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505

FI (4)：

G03F 7/029 ,  C08F 2/50 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505