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J-GLOBAL ID：200903074044436212
位相シフトマスクの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
筒井 大和
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993295233
Publication number (International publication number)：1995146542
Application date： Nov. 25, 1993
Publication date： Jun. 06, 1995
Summary：
【要約】【目的】 遮光膜パターンを有する透明基板に対する位相シフタの接着性を向上させる。【構成】 隣接する透光パターンに対してほぼ180°の位相差を生じさせる位相シフタが設けられるマスクの製造方法であって、遮光パターンの形成が完了した段階(工程106)及び前記位相シフタの形成が完了した段階(工程113)における各洗浄に対し、洗浄液として高温リンスを用い、基板表面を疎水性にする。
Claim (excerpt)：
隣接する透光パターンに対してほぼ180°の位相差を生じさせる位相シフタが設けられるマスクの製造方法であって、遮光パターンの形成が完了した段階及び前記位相シフタの形成が完了した段階における各洗浄に対し、基板表面を疎水性にする洗浄液を用いることを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
, H01L 21/30 569 E
