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J-GLOBAL ID：200903074049623070

ポリアミド酸エステル組成物

Inventor： 花畑 博之
Applicant, Patent owner： 旭化成エレクトロニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003336536
Publication number (International publication number)：2005105011
Application date： Sep. 26, 2003
Publication date： Apr. 21, 2005
Summary：

【課題】 ポリイミド塗膜としてきわめて低い残留応力を与えうるポリアミド酸エステル組成物、及び該組成物を用いたポリイミドパターンの形成方法を提供する【解決手段】 下記一般式(1)で表される繰り返し単位を包含するポリアミド酸エステル100質量部と、(b)籠状シルセスキオキサン、又は籠状シルセスキオキサンの部分開裂構造体の少なくとも一種を0.1〜90質量部と、(c)溶媒からなることを特徴とするポリアミド酸エステル組成物。【化1】【選択図】 選択図なし

Claim (excerpt)：

(a)下記一般式(1)で表される繰り返し単位を包含するポリアミド酸エステル100質量部と、

IPC (4)：

C08L79/04 ,  C08L83/04 ,  G03F7/027 ,  G03F7/075

FI (4)：

C08L79/04 Z ,  C08L83/04 ,  G03F7/027 514 ,  G03F7/075 521

F-Term (20)：

2H025AA00 ,  2H025AA13 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC69 ,  2H025CA00 ,  2H025CB33 ,  2H025CC20 ,  2H025FA29 ,  4J002CM04W ,  4J002CP03X ,  4J002CP04X ,  4J002CP07X ,  4J002CP09X ,  4J002CP12X ,  4J002GP03 ,  4J002GQ00 ,  4J002HA03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特公昭59-52822号公報
  
• 特公平4-623062号公報