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J-GLOBAL ID：200903074059747818

ステンシル・マスク

Inventor： 岩松 誠一
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992239680
Publication number (International publication number)：1994089849
Application date： Sep. 08, 1992
Publication date： Mar. 29, 1994
Summary：

【要約】【目的】生産性の高いステンシル・マスクの構造と製造方法を提供する。【構成】投影型イオン・ビーム露光に用いるステンシル・マスクを、メッシュ状のスクリーン12にマスクパターン13が引懸けて構成する。スクリーン12は線幅0.1μm,線間隔0.3μm〜0.5μm程度で厚さ0.1μm程度のシリコン酸化膜、シリコン窒化膜、ダイヤモンド膜、アルミナ膜などの絶縁膜や、シリコン膜、チタン膜、ニッケル膜、タンタル膜、タングステン膜やモリブデン膜などの半導体膜や金属膜などをホト・エッチングなどでメッシュ状に形成する。マスクパターン13も0.3μm〜1μm厚のシリコン膜、チタン膜、ニッケル膜、タンタル膜、タングステン膜やモリブデン膜などの半導体膜や金属膜などを最小線幅0.3μm程度にホト・エッチングで形成する。フレーム11はシリコンやパイレックス・ガラスあるいは石英ガラスなどで構成する。

Claim (excerpt)：

第1の材料から成るスクリーン上には第2の材料から成るマスクパターンが形成されて成ることを特徴とするステンシル・マスク。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  B41N 1/24 ,  G03F 1/16

FI (2)：

H01L 21/30 341 B ,  H01L 21/30 351