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J-GLOBAL ID：200903074095881121

半導体装置の製造方法

Inventor： 中野 正 ,  佐藤 伸良 ,  太田 与洋
Applicant, Patent owner： 川崎製鉄株式会社
Agent (1)： 杉村 暁秀 (外5名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993068853
Publication number (International publication number)：1994283507
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 第1層間絶縁膜として埋め込み性が良好であるとともにボイドを有しない、平坦性も良好な優れた膜質のものを形成する。【構成】 シリコンウェファ11の表面に絶縁膜を形成するに当たり、まず下地酸化膜12を形成し、次いでこの下地酸化膜12の表面を有機化合物で処理した後、一分子内にSi並びにB,P,Ge及びAsから選ばれた少なくとも一種を含む化合物を原料として用いる化学気相成長により絶縁膜14を形成する。このように下地酸化膜表面12を有機化合物で処理することにより埋め込み性が良く、ボイドがなく、良好な膜質の絶縁膜を形成できる。

Claim (excerpt)：

半導体装置の絶縁膜を形成するに当たり、まず下地酸化膜を形成し、次いでこの下地酸化膜の表面を有機化合物で処理した後、一分子内にSi並びにB,P,Ge及びAsから選ばれた少なくとも一種を含む化合物を原料として用いる化学気相成長により絶縁膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。

IPC (2)：

H01L 21/316 ,  H01L 21/90