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J-GLOBAL ID：200903074135923434

リソグラフィ・マスクの設計および基板上での多様なプローブの合成

Inventor： ハベル,アール・エイ ,  ストリヤー,ルバート ,  ミットマン,マイケル・ピイ
Applicant, Patent owner： アフィメトリックス・インコーポレーテッド
Agent (1)： 山川 政樹 (外5名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1998527970
Publication number (International publication number)：2001517300
Application date： Dec. 17, 1997
Publication date： Oct. 02, 2001
Summary：

【要約】基板上にプローブを合成するシステムおよび方法を用意する。1つまたは複数のシフト・レチクルを利用して、基板の指定の場所に単量体を一様に付加する。シフト・レチクルは、単量体付加の段階と段階の間に、基板に対してシフトされる。さらに、所望のプローブの特性を合成時に指定することができる。

Claim (excerpt)：

基板上にプローブを合成する方法において、 基板上の、少なくとも1つのシフト・レチクルによって指定された場所に単量体を結合する段階と、 前記少なくとも1つのシフト・レチクルを基板に対してシフトさせる段階と、 前記少なくとも1つのシフト・レチクルをシフトさせた後に、前記基板上の、前記少なくとも1つのシフト・レチクルによって指定された場所に単量体を結合する段階と を含み、 単量体を含むプローブを基板上に合成する ことを特徴とする方法。

IPC (5)：

G01N 33/53 ,  C12Q 1/68 ,  G01N 33/566 ,  C12M 1/00 ,  C12N 15/09

FI (5)：

G01N 33/53 M ,  C12Q 1/68 A ,  G01N 33/566 ,  C12M 1/00 A ,  C12N 15/00 A