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J-GLOBAL ID：200903074174925177

二酸化炭素の光固定化方法

Inventor： 大空 弘幸 ,  小林 一登
Applicant, Patent owner： 三菱重工業株式会社
Agent (1)： 内田 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991317682
Publication number (International publication number)：1993155794
Application date： Dec. 02, 1991
Publication date： Jun. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】 二酸化炭素を光化学的に固定化する方法に関する。【構成】 光透過性を有する多孔質基材に酸化物半導体を担持した薄膜型触媒と二酸化炭素及び水を接触させ同時に光を照射させることにより、含酸素炭化水素化合物を生成させる二酸化炭素の光固定化方法。

Claim (excerpt)：

光透過性を有する多孔質基材に酸化物半導体を担持した薄膜型触媒と二酸化炭素及び水を接触させ同時に光を照射させることにより、含酸素炭化水素化合物を生成することを特徴とする二酸化炭素の光固定化方法。

IPC (6)：

C07C 31/08 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02 ,  C07C 29/09 ,  C07C 31/04 ,  C07B 61/00 300