Pat

J-GLOBAL ID：200903074176532440

膜厚測定方法及び膜厚測定装置

Inventor： 乳井 勝 ,  伴 箕吉 ,  杉山 易 ,  鈴木 武彦
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 日比谷 征彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997309798
Publication number (International publication number)：1999132727
Application date： Oct. 24, 1997
Publication date： May. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】 膜厚測定の好適位置に対して正確にアライメントする必要がなく測定時間を短縮することを可能とする。【解決手段】 CCD受光素子42a〜42cで受光した二次元画像において、結像状態の最良な画像を判別するために、画像断面の受光信号のプロファイルを求めるサンプリングラインn1〜n5を複数設定し、位置検出画像処理部53において、これらの画像断面プロファイル情報から、互いに隣り合う画素番地i、j毎にそれぞれの受光信号差を求め、これらの差の平均値が最大となる画像を位置検出用画面として採用する。この採用した画面内から、予め登録してある位置検出のための特定のパターン又はマークを基準にして、位置検出画像処理部53により二次元画像内の位置(Xp,Yp)を求める。膜厚測定好適位置選択部55の画像処理により、この位置(Xp,Yp)を基準にして膜厚測定に好適な位置(Xm,Ym)又は領域Sを座標化して決定し、この好適位置について膜厚測定を行う。

Claim (excerpt)：

光源から出射する光束を所定のパターンを形成した膜層を有する基板面上の所定領域に照射し、該所定領域からの光束を複数の波長別に分離して二次元配列の受光素子上に結像し、前記所定領域の複数の波長別二次元画像を記憶し、該複数の波長別二次元画像情報により前記所定領域内から膜厚測定に好適な位置を決定し、該決定した位置に対応する画像信号により前記膜層の膜厚を測定することを特徴とする膜厚測定方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特許第2574807号