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J-GLOBAL ID：200903074180741185

感光性樹脂組成物、その製造法及びこれを用いたソルダーレジストの製造法

Inventor： 川上 広幸 ,  土川 信次 ,  太田 文彦 ,  西澤 廣
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998022104
Publication number (International publication number)：1999217414
Application date： Feb. 03, 1998
Publication date： Aug. 10, 1999
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 低温硬化性、耐熱性、密着性及び耐湿性(耐PCT性)に優れる感光性樹脂組成物、及びこれを用いたソルダーレジストの製造法の提供。【解決手段】 (A)(a)ポリイミド前駆体、及び(B)光重合性不飽和化合物、及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。(A)一般式(I)(R1は炭素数2〜30の4価の有機基、R2は炭素数2〜240の2価の有機基、Xはそれぞれ独立にOH又は炭素数1〜30の1価の有機基)で表される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、(B)一般式(II)(R3は炭素数が2〜240の2価の有機基、R4は炭素数が1〜30の2価の有機基mは1〜100の整数、nは0又は1)で表される光重合性不飽和化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物、その製造法及びこれを用いたソルダーレジストの製造法。

Claim (excerpt)：

(A)一般式(I)【化1】(式中、R1 は炭素原子数2〜30の4価の有機基を示し、R2 は炭素原子数2〜240の2価の有機基を示し、Xはそれぞれ独立にOH又は炭素原子数1〜30の1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリイミド前駆体、(B)一般式(II)【化2】(式中、R3 は炭素原子数が2〜240の2価の有機基を示し、R4 は炭素原子数が1〜30の2価の有機基を示しmは1〜100の整数を示し、nは0又は1の整数を示す)で表される光重合性不飽和化合物及び(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (12)：

C08F299/06 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/48 ,  C08L 75/16 ,  C08L 79/08 ,  C09D 4/06 ,  C09D175/16 ,  C09D179/08 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/40 501

FI (12)：

C08F299/06 ,  C08F 2/44 C ,  C08F 2/48 ,  C08L 75/16 ,  C08L 79/08 A ,  C09D 4/06 ,  C09D175/16 ,  C09D179/08 A ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/40 501