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J-GLOBAL ID：200903074192553945

ウエット処理装置

Inventor： 浜野 春人 ,  瀬尾 祐史 ,  清水 裕司 ,  井内 真 ,  佐々木 康 ,  太田 なほみ
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994056110
Publication number (International publication number)：1995263398
Application date： Mar. 25, 1994
Publication date： Oct. 13, 1995
Summary：

【要約】【目的】純水を電気分解して得られる電解水を用いて効率的に半導体基板をウエット処理するに適した、ウエット処理装置を提供する。【構成】純水に支持電解質を供給し電気分解して得られた電解水を用いて半導体基板をウエット処理後、廃液を再生し、該電解水の生成される電極側の電気分解槽に循環させる事で電解水の生成効率を上げると同時に、短寿命の電解水の長寿命化を計っている。

Claim (excerpt)：

純水を供給する純水供給手段と、前記純水供給手段に支持電解質を供給する支持電解質供給手段と、前記支持電解質が添加された前記純水を電気分解し電極水を生成する正の電圧が印加される陽極電極と負の電圧が印加される陰極電極とを有する電気分解水生成手段と、前記陽極電極近傍で活性化された陽極水を半導体基板を処理する半導体基板処理手段に供給する供給手段と、前記半導体処理手段から排出される排出陽極水を再生し前記電気分解再生手段の陽極側に循環させる排出液再生手段、または、前記陰極電極近傍で活性化された陰極水を半導体基板を処理する半導体基板処理手段に供給する供給手段と、前記半導体処理手段から排出される排出陰極水を再生し前記電気分解再生手段の陰極側に循環させる排出液再生手段の少なくとも一方を有することを特徴とするウエット処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/10 ,  C02F 1/46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平2-054800
  
• 特開昭62-102890
  
• 硫化水素ガスの除去方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-336792   Applicant：栗田工業株式会社