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J-GLOBAL ID：200903074204090938
スパッタリング用ターゲット
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴木 正次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992070443
Publication number (International publication number)：1993230638
Application date： Feb. 20, 1992
Publication date： Sep. 07, 1993
Summary：
【要約】 (修正有)【目的】 ターゲット材を裏板へ機械的に押え付けたスパッタリング用ターゲットの冷却効率を安定にすることを目的としている。【構成】 冷却水で冷却される裏板1にターゲット材2を押えリング3を介して機械的に押え付けてなるスパッタリング用ターゲットにおいて、ターゲット材2の裏板1と当接する面に金属薄膜9が形成してある。
Claim (excerpt)：
冷却水で冷却される裏板にターゲット材を機械的に押え付けてなるスパッタリング用ターゲットにおいて、前記ターゲット材の裏板と当接する面に、金属薄膜が形成してあることを特徴としたスパッタリング用ターゲット。
Patent cited by the Patent：
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