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J-GLOBAL ID：200903074206428189
ナノサイズの微細ホールを有するマルチスケールのカンチレバー構造物及びその製造方法
Inventor：
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,
,
Applicant, Patent owner：
,
Agent (6)：
八田 幹雄
, 奈良 泰男
, 宇谷 勝幸
, 藤田 健
, 都祭 正則
, 長谷川 俊弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006293074
Publication number (International publication number)：2007121306
Application date： Oct. 27, 2006
Publication date： May. 17, 2007
Summary：
【課題】陽極酸化法を利用して製造されたナノサイズの微細ホールを有するマルチスケールのカンチレバー構造物及びその製造方法を提供する。【解決手段】第1高さを有する第1領域と第1高さよりも高い第2高さを有する第2領域とを備えるアルミニウム基板110からなる第1層と、アルミニウム基板110上に形成されているアルミナからなり、第2領域と連結されている本体部と当該本体部から第1領域上に突出しており、第1領域の表面から離隔されている突出部とを備えるカンチレバー120からなる第2層と、カンチレバー120上に積層された金属薄膜層130からなる第3層と、金属薄膜層130上に積層された第4層140と、を備える。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
第1高さを有する第1領域と前記第1高さよりも高い第2高さを有する第2領域とを備えるアルミニウム基板からなる第1層と、
前記アルミニウム基板上に形成されているアルミナからなり、前記第2領域と連結されている本体部と当該本体部から前記第1領域上に突出しており、前記第1領域の表面から離隔されている突出部とを備えるカンチレバーからなる第2層と、
前記カンチレバー上に積層された金属薄膜層からなる第3層と、
前記金属薄膜層上に積層された第4層と、
を備えるマルチスケールのカンチレバー構造物。
IPC (8)：
G01N 5/02
, B81B 3/00
, C25D 11/18
, C25D 11/16
, C25D 11/08
, B81C 1/00
, B82B 1/00
, B82B 3/00
G01N5/02 A
, B81B3/00
, C25D11/18 308
, C25D11/16 301
, C25D11/08
, B81C1/00
, B82B1/00
, B82B3/00
Cited by examiner (2)
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金属の陽極処理膜による微小機械装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平6-271936
Applicant：佐藤洋一
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センサチップおよびそれを用いたセンサ
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2003-033761
Applicant：富士写真フイルム株式会社
Article cited by the Patent：
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