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J-GLOBAL ID：200903074236713074

マイクロ波プラズマエッチング装置

Inventor： 河村 勝文 ,  川浦 廣 ,  柴田 文雄 ,  幸本 徹哉
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社 ,  キヤノン販売株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992342006
Publication number (International publication number)：1994188222
Application date： Dec. 22, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 装置内での磁場強度分布やマイクロ波の結合モードを調節することができ、小型化されたマイクロ波プラズマエッチング装置を実現すること。【構成】 処理室と、処理室内にプラズマを発生させるためにマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、磁場を発生する磁場発生手段とを具備し、処理室を磁場発生手段19が発生する磁場内に置くことにより、処理室内に発生したプラズマを高密度プラズマとして試料をエッチングするマイクロ波プラズマエッチング装置において、マイクロ波供給手段はマイクロ波発振器4と、処理室上部に設けられる環状のアンテナと、マイクロ波発振器にて発生したマイクロ波を均等に分散してアンテナに印加するマイクロ波分配器6から構成され、磁場発生手段19は試料を挟んで対向配置される2個の永久磁石によって構成されており、該2個の永久磁石のうちの少なくとも一方は移動可能とされてその配置間隔が調節可能とされている。

Claim (excerpt)：

処理室と、前記処理室内にプラズマを発生させるためにマイクロ波を供給するマイクロ波供給手段と、磁場を発生する磁場発生手段とを具備し、前記処理室を前記磁場発生手段が発生する磁場内に置くことにより、処理室内に発生したプラズマを高密度プラズマとして試料をエッチングするマイクロ波プラズマエッチング装置において、前記マイクロ波供給手段はマイクロ波発振器と、前記処理室上部に設けられる環状のアンテナと、マイクロ波発振器にて発生したマイクロ波を均等に分散してアンテナに印加するマイクロ波分配器から構成され、前記磁場発生手段は前記試料を挟んで対向配置される2個の永久磁石によって構成されており、該2個の永久磁石のうちの少なくとも一方は移動可能とされてその配置間隔が調節可能とされていることを特徴とするマイクロ波プラズマエッチング装置。

IPC (4)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00 ,  G03F 7/36 ,  H05H 1/46