歯みがき組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：1996511894
Publication number (International publication number)：1998506629
Application date： Sep. 25, 1995
Publication date： Jun. 30, 1998
Summary：

【要約】新規の研磨剤を含有する口腔用ゲル、練り歯みがきなどの口腔用組成物。(a)沈降シリカ〔ただし、該沈降シリカは軟質の粒子の狭い粒径範囲分布を有し且つ平均粒径8〜14μm、好ましくは7〜11μm、吸油量60〜120cc/100gおよび水銀圧入(HGI)ボイド容量1.0〜4.0cc/gを有する低構造沈降シリカであり;前記沈降シリカは、歯みがきに処方する時に、ペリクルクリーニング比(PCR)70〜140および放射性象牙質摩耗(RDA)値60〜130を有し;且つ前記PCR対前記RDAの比率は少なくとも1:1であり;粒径(μm)が前記シリカ中で増大する時に、RDA値は実質上一定のままである〕、および(b)口腔上許容可能な歯みがき担体0.1%〜99%を含むことを特徴とする歯みがき組成物。

Claim (excerpt)：

(a)沈降シリカであって、該沈降シリカが軟質の粒子の狭い粒径範囲分布を有し、且つ、平均値(MV)粒径8〜14μm、好ましくは7〜11μm、吸油量60〜120cc/100gおよび水銀圧入(HGI)ボイド容量1.0〜4.0cc/gを有する低構造沈降シリカであり、前記沈降シリカが、歯みがきに処方する時に、ペリクルクリーニング比(PCR)70〜140および放射性象牙質摩耗(RDA)値60〜130を有し、且つ前記PCR対前記RDAの比率は少なくとも1:1であり、粒径(μm)が前記シリカ中で増大する時にRDA値が実質上一定のままであるもの、および (b)口腔上許容可能な歯みがき担体0.1%〜99%を含んでなることを特徴とする、歯みがき組成物。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

沈降珪酸およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-012402 Applicant：デグッサアクチェンゲゼルシャフト
特開昭54-086636
特開昭63-139014

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