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J-GLOBAL ID：200903074273779522

薬液処理方法および薬液処理装置

Inventor： 山田 智紀 ,  後藤 哲哉 ,  鈴木 哲男 ,  吉岡 正裕 ,  垣貫 剛広 ,  富松 伸二
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997347628
Publication number (International publication number)：1999174688
Application date： Dec. 17, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】均一な薬液処理、および泡沫やミストなどによる斑点状のムラを解消する薬液処理方法ならびに薬液処理装置を提供する。【解決手段】被処理物上に薬液を供給し、該被処理物上に薬液を保持したまま所定の時間搬送することによって被処理物を薬液処理することを特徴とする薬液処理方法。

Claim (excerpt)：

被処理物上に薬液を供給し、該被処理物上に薬液を保持したまま所定の時間搬送することによって被処理物を薬液処理することを特徴とする薬液処理方法。

IPC (5)：

G03F 7/30 501 ,  B05C 13/00 ,  G02B 5/20 101 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643

FI (6)：

G03F 7/30 501 ,  B05C 13/00 ,  G02B 5/20 101 ,  H01L 21/304 643 B ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/30 572 B