Pat
J-GLOBAL ID:200903074301580575
FePt磁性薄膜の製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001288171
Publication number (International publication number):2003099920
Application date: Sep. 21, 2001
Publication date: Apr. 04, 2003
Summary:
【要約】【課題】 規則化のために成膜後に600°C以上の高温に熱処理したり、高い保磁力を低温で実現するために第3元素を添加したりすることなく、成膜直後に規則化されたL10構造のFePt相を得る。【解決手段】 基板を200〜300°Cに加熱しながらスパッタ法により成膜し、成膜中に薄膜表面で起こる原子の表面拡散によりFePt相の規則化を進行させ、成膜直後に規則化されたL10構造のFePt相を得る。
Claim (excerpt):
基板を200〜300°Cに加熱しながらスパッタ法により成膜し、成膜中に薄膜表面で起こる原子の表面拡散によりFePt相の規則化を進行させ、成膜直後に規則化されたL10構造のFePt相を得ることを特徴とするFePt磁性薄膜の製造方法。
IPC (8):
G11B 5/851
, C23C 14/14
, C23C 14/34
, G11B 5/65
, G11B 5/73
, G11B 5/738
, H01F 10/14
, H01F 41/18
FI (8):
G11B 5/851
, C23C 14/14 F
, C23C 14/34 P
, G11B 5/65
, G11B 5/73
, G11B 5/738
, H01F 10/14
, H01F 41/18
F-Term (32):
4K029AA04
, 4K029AA06
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA01
, 4K029BA11
, 4K029BA16
, 4K029BA22
, 4K029BA26
, 4K029BB02
, 4K029BC06
, 4K029BD11
, 4K029CA05
, 4K029EA08
, 5D006BB05
, 5D006BB07
, 5D006CA01
, 5D006CB04
, 5D006EA03
, 5D112AA02
, 5D112AA03
, 5D112AA05
, 5D112BA02
, 5D112BA03
, 5D112BB02
, 5D112BB06
, 5D112BD02
, 5D112FA04
, 5E049AA01
, 5E049BA06
, 5E049GC01
, 5E049GC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
Show all
Return to Previous Page