Pat
J-GLOBAL ID：200903074304196563
化粧料
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997162587
Publication number (International publication number)：1999012152
Application date： Jun. 19, 1997
Publication date： Jan. 19, 1999
Summary：
【要約】【課題】柔軟効果と油っぽさのない使用感に優れた化粧料を提供することを目的とする。【解決手段】 平均組成式(I) Za(R<SP>1 </SP>)bSiO<SB>[4-(a+b)]/2</SB> ...... (I)(上式中、R<SP>1 </SP>は置換もしくは非置換の1価の炭化水素基を表し、Zは下式(II)で表される)【化1】(上式中、R<SP>2 </SP>は2価の炭化水素基を表し、R<SP>3 </SP>およびR<SP>4 </SP>はそれぞれ炭素数1から4の2価の炭化水素基を表し、pおよびqはそれぞれ0≦p≦50、0≦q≦50および2<(p+q)を満たす整数であり、aおよびbはそれぞれ0<a≦1、0<b<2および1.9≦(a+b)≦2.1を満たす数である)で示される分子量500から500,000のN-ポリオキシアルキレンアミノアルキル基含有ポリオルガノシロキサンを含む化粧料。
Claim (excerpt)：
平均組成式(I) Za(R<SP>1 </SP>)bSiO<SB>[4-(a+b)]/2</SB> ...... (I)(上式中、R<SP>1 </SP>は置換もしくは非置換の1価の炭化水素基を表し、Zは下式(II)で表される)【化1】(上式中、R<SP>2 </SP>は2価の炭化水素基を表し、R<SP>3 </SP>およびR<SP>4 </SP>はそれぞれ炭素数1から4の2価の炭化水素基を表し、pおよびqはそれぞれ0≦p≦50、0≦q≦50および2<(p+q)を満たす整数であり、aおよびbはそれぞれ0<a≦1、0<b<2および1.9≦(a+b)≦2.1を満たす数である)で示される分子量500から500,000のN-ポリオキシアルキレンアミノアルキル基含有ポリオルガノシロキサンを含むことを特徴とする化粧料。
IPC (6)：
A61K 7/48
, A61K 7/00
, A61K 7/06
, A61K 7/075
, A61K 7/08
, C08L 83/08
A61K 7/48
, A61K 7/00 J
, A61K 7/06
, A61K 7/075
, A61K 7/08
, C08L 83/08
