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J-GLOBAL ID：200903074307986115

光学出力装置におけるスポット位置制御のための電子光学制御装置とシステム

Inventor： ジェイムズ・ジェイ・アペル ,  トーマス・エル・パオリ
Applicant, Patent owner： ゼロックス コーポレイション
Agent (1)： 小堀 益
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992215107
Publication number (International publication number)：1993224142
Application date： Aug. 12, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】ラスタ出力スキャナ(ROS)のような光学式出力装置のスポット符合又はスポット位置は所定の波長において加えられる電気的バイアスの関数として角分散が異なる電子光学素子22を画像経路に装着することによって低速又はプロセス走査方向で制御することができる。分散の制御がROSの高速もしくは線走査方向と垂直であるように電子光学素子を配向し、それに加えられる電気的バイアスを変更することによって、低速走査方向での分散が変化する。電子光学素子に加えられるバイアスは位置誤差を検出し、定量化するための装置の出力に応答して、及び/又はプロセッサ108により制御される記憶装置110等から出力される所定の修整理情報に応答することができる。【効果】単一又は多重ビームの光学式出力装置用のスポット位置を確定することができる。

Claim (excerpt)：

光ビームが発生され、画像面装置上にスポットとして集束される形式の光学式出力装置において、次のものを含む、画像面装置の低速走査面内のスポット位置を制御する装置:光ビームが画像面装置上に入射するポイントで光ビームの低速走査方向での位置を制御する電子光学式装置から構成され、該装置が光源と画像面装置との間の光路内に配置され、且つ少なくとも半透明の材料から成り、且つ該材料に加えられるバイアスの関数として屈折率が変化することによって光ビームの低速走査方向での位置を制御する構成。

IPC (4)：

G02B 26/10 ,  G02B 26/10 102 ,  G02F 1/29 ,  H04N 1/04 104

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭60-120316
  
• 特開昭63-199480
  
• 特開平4-328777