Pat

J-GLOBAL ID：200903074324820514

炭化珪素単結晶のメカノケミカルポリシング方法

Inventor： 金谷 正敏 ,  高橋 淳
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 八田 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993229150
Publication number (International publication number)：1995080770
Application date： Sep. 14, 1993
Publication date： Mar. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 この発明は、炭化珪素単結晶の平坦度の良いメカノケミカルポリシング表面を得ることを目的とする。【構成】 酸化クロム(Cr2 O3 )を遊離砥粒として用いて、マイクロビッカース硬さが1000〜2000のポリシング定盤を使用して、炭化珪素単結晶をメカノケミカルポリシングする。

Claim (excerpt)：

酸化クロム(Cr2 O3 )粉末を遊離砥粒として用いてメカノケミカルポリシングを行う方法において、ポリシング定盤にマイクロビッカース硬さが1000〜2000の材料を使用したことを特徴とする炭化珪素単結晶のメカノケミカルポリシング方法。

IPC (3)：

B24B 37/00 ,  B24B 1/00 ,  B24B 37/04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭61-203265
  
• 特開昭60-062459
  
• 特開2049-203265
  
• 特開昭60-062459