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J-GLOBAL ID：200903074353119779

プラズマ処理装置

Inventor： 荒見 淳一 ,  深澤 和夫
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
Agent (1)： 佐々木 聖孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992309257
Publication number (International publication number)：1993217951
Application date： Oct. 23, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：

【要約】[目的]サセプタの破損や静電チャックシートの焼損・短絡等を防止し、ひいてはパーティクルの発生を防止し歩留まりを向上させる。[構成]サセプタ14は、肉厚なウエハ載置台14aと肉薄な鍔部またはフランジ部14bとを一体成形した円盤体で、ウエハ載置台14aの上面つまりウエハ載置面の周縁部14cは曲率半径の大きな湾曲面に形成されている。サセプタ14のウエハ載置面には静電チャックシート20が冠着され、この静電チャックシート20の上に半導体ウエハ22が載置される。この静電チャックシート20は周縁部20dがサセプタ14の湾曲周縁部14cに被さるように湾曲した立体的な形体をなしており、このシートの高分子フィルムの材料として、結晶化前のアラミド樹脂が用いられる。このアラミド樹脂は、乾燥・熱処理を受ける前の膨潤ゲルフィルムで、ポリマーの結晶化処理がされていないので、深絞り成形が可能である。

Claim (excerpt)：

サセプタの載置面に載置された被処理体に対してプラズマを利用した所定の処理を行うプラズマ処理装置において、前記サセプタの載置面の周縁部を湾曲面に形成してなることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/302 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/68