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J-GLOBAL ID：200903074356839292

投影露光装置

Inventor： 逆井 成夫 ,  白石 直正
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992046906
Publication number (International publication number)：1993251300
Application date： Mar. 04, 1992
Publication date： Sep. 28, 1993
Summary：

【要約】【目的】 半導体素子製造用の投影露光装置におけるマスク照明条件を輪帯(傾斜)照明にする際、輪帯条件の多様化に対応する。【構成】 照明光学系内でマスクのパターン面に対してフーリエ変換の関係にある第1の面に輪帯の外径を規定する第1の絞りを設け、さらにその第1の面と共役な第2の面に輪帯の内径を規定する第2の絞りを設ける。

Claim (excerpt)：

所定のパターンが形成されたマスクを露光光で照明し、該マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板上に結像投影する装置において、前記マスクのパターン面に対して光学的なフーリエ変換の関係にある第1の面と、該第1の面と共役な第2の面とを有し、光源からの露光光を前記マスクに照射する照明光学系と;前記第1の面、又はその近傍に配置されて、露光光の外周部を制限する第1の絞り部材と;前記第2の面、又はその近傍に配置されて、露光光の中央部を制限する第2の絞り部材とを備えたことを特徴とする投影露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3)：

H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 301 P ,  H01L 21/30 311 S

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-062617
  
• 特開昭61-252704