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J-GLOBAL ID：200903074357145090

近視野光素子の作製方法

Inventor： 大海 学 ,  笠間 宣行 ,  加藤 健二 ,  前田 英孝 ,  光岡 靖幸 ,  市原 進 ,  新輪 隆 ,  篠原 陽子
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000373310
Publication number (International publication number)：2002174585
Application date： Dec. 07, 2000
Publication date： Jun. 21, 2002
Summary：

【要約】【課題】 本発明の課題は、簡便な方法で均一な開口径を有する微小開口を形成する方法を提供することである。【解決手段】 錐状のチップ1先端に光学的な開口を有し、前記開口面内に金属から成る散乱体501を有する近視野光素子の作製方法において、チップ1と、チップ1の近傍に配置され、チップ1と略同じ高さを有する度当たり2と、少なくともチップ1上に形成された遮光膜3からなる被開口形成体に対して、少なくともチップ1および度当たり2の少なくとも一部を覆う押しこみ体を、チップ1に向かう成分を有する力によって変位させることによって、チップ1先端に光学的な開口8及び散乱体501を形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

錐状のチップ先端に光学的な開口を有し、前記開口面内に金属から成る散乱体を有する近視野光素子の作製方法において、前記チップと、前記チップの近傍に配置され、前記チップと略同じ高さを有する度当たりと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜からなる被開口形成体に対して、少なくとも前記チップおよび前記度当たりの少なくとも一部を覆う押しこみ体を、前記チップに向かう成分を有する力によって変位させることによって、前記チップ先端に光学的な開口及び前記散乱体を形成することを特徴とする近視野光素子の作製方法。

IPC (4)：

G01N 13/14 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22 ,  G12B 21/06

FI (4)：

G01N 13/14 B ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22 ,  G12B 1/00 601 C

F-Term (5)：

5D119AA11 ,  5D119AA22 ,  5D119BA01 ,  5D119JA34 ,  5D119NA05