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J-GLOBAL ID：200903074365010900

半導体基板の洗浄液

Inventor： 杉原 康夫 ,  田中 一成 ,  河上 道也
Applicant, Patent owner： 三菱瓦斯化学株式会社
Agent (1)： 小堀 貞文
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991055736
Publication number (International publication number)：1994116770
Application date： Feb. 28, 1991
Publication date： Apr. 26, 1994
Summary：

【要約】【目的】半導体基板を塩基性の過酸化水素水溶液で洗浄する際して、金属不純物の基板表面への付着を防止する。【構成】塩基性の過酸化水素水溶液からなる洗浄液にホスホン酸系のキレート剤を添加する。【効果】洗浄液が金属不純物により汚染されても、基板表面に付着することがないので、基板より作製した半導体素子の素子特性が安定化する。

Claim (excerpt)：

少なくとも2つのホスホン酸基を有するキレート剤を含有する塩基性の過酸化水素洗浄液からなる半導体基板洗浄液。

IPC (6)：

C23G 5/032 ,  C11D 7/60 ,  H01L 21/304 341 ,  C11D 7:36 ,  C11D 7:18 ,  C11D 7:04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-237007
  
• 特公大14-006439
  
• 特開昭57-172210