微細パタ-ンの製造装置及びホログラフィックメモリ記録再生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：岩橋文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999018367
Publication number (International publication number)：2000214753
Application date： Jan. 27, 1999
Publication date： Aug. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】任意のピッチおよび傾きを持つ周期的な微細パターンを高いコントラストで製造することができる二光束干渉露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】感光性媒質へ入射した二つのレーザー光束の媒質内での光強度比を、ビジビリティVの値がV≧0.8となるように光量調整手段30を用いて光強度を調整する。これにより、干渉縞のビジビリティを増大させることができ、干渉光のコントラストを改善することができる。

Claim (excerpt)：

光源からの光をビームスプリッタまたはプリズムにより2つの光束に分岐し、これら2つの光束を感光性材料内で干渉させることにより前記感光性材料に周期的な微細パターンを形成する製造装置であって、前記2つの光束のうち少なくとも一つの光束を前記感光性材料に照射する光路中に光束の光量調整手段を備えたことを特徴とする微細パターンの製造装置。

F-Term (13)：

2K008AA00 , 2K008AA04 , 2K008AA17 , 2K008BB04 , 2K008CC01 , 2K008CC03 , 2K008DD13 , 2K008DD23 , 2K008HH12 , 2K008HH16 , 2K008HH18 , 2K008HH25 , 2K008HH26

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

ホログラム記録用二次元符号化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-009181 Applicant：日本電信電話株式会社
特開平3-289692
特開平3-241387

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