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J-GLOBAL ID：200903074437210011

化学増幅型ポジレジストの現像方法

Inventor： 山中 司 ,  上西 一也 ,  青合 利明 ,  小久保 忠嘉
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995085651
Publication number (International publication number)：1996286386
Application date： Apr. 11, 1995
Publication date： Nov. 01, 1996
Summary：

【要約】【目的】 起泡性、表面残渣、表面剥離、膜減りを防止でき、パターンの疎密依存性が小さく、更に露光-PEBの経時があってもT-top形成、DOF低下、解像力劣化、および感度低下の生じない良好なレジストを形成することができる化学増幅型ポジ型レジストの現像方法を提供することである。【構成】 酸の作用により分解する基を有し、この基の分解によってアルカリ可溶性となる化合物、光酸発生剤、及び有機塩基性化合物を含有する化学増幅型ポジレジストを、オキシエチレン構造を有する界面活性剤を含有するアルカリ水溶液で現像する。

Claim (excerpt)：

酸の作用により分解する基を有し、この基の分解によってアルカリ可溶性となる化合物、光酸発生剤、及び有機塩基性化合物を含有する化学増幅型ポジレジストを、オキシエチレン構造を有する界面活性剤を含有するアルカリ水溶液で現像することを特徴とする化学増幅型ポジレジストの現像方法。

IPC (3)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501

FI (3)：

G03F 7/32 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 501