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J-GLOBAL ID：200903074458395038

光ファイバ装置

Inventor： 井原 正博 ,  大谷 文彦 ,  小出 良平 ,  三方 修
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所 ,  小出 良平 ,  三方 修
Agent (1)： 根本 進
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997325221
Publication number (International publication number)：1999137561
Application date： Nov. 10, 1997
Publication date： May. 25, 1999
Summary：

【要約】【課題】光ファイバの一端側に位置するレーザ光出射部に、レーザ光の照射対象物、雰囲気、周囲物質等に含まれる汚物等が付着するのを防止し、レーザ光の強度低下を防止して連続照射を可能にする光ファイバ装置を提供する。【解決手段】レーザ光を伝送すると共に、そのレーザ光を一端側から出射する光ファイバ2と、そのレーザ光の出射部2aに向かい流体を送る管3とを備える。そのレーザ光出射部2aに向かう流体の流れにより、レーザ光の照射対象物、雰囲気、周囲物質等に含まれる汚物等が、そのレーザ光出射部2aに近付くのを阻止し、あるいは、その汚物等を遠ざける。

Claim (excerpt)：

レーザ光を伝送すると共に、そのレーザ光を一端側から出射する光ファイバと、そのレーザ光の出射部に向かい流体を送る管とを備える光ファイバ装置。

IPC (4)：

A61B 17/36 350 ,  A61F 9/007 ,  A61N 5/06 ,  B23K 26/08

FI (4)：

A61B 17/36 350 ,  A61N 5/06 E ,  B23K 26/08 K ,  A61F 9/00 500