Pat

J-GLOBAL ID：200903074492521077

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor： 坂口 昌也 ,  深澤 利雄
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 岩橋 文雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000070028
Publication number (International publication number)：2001256617
Application date： Mar. 14, 2000
Publication date： Sep. 21, 2001
Summary：

【要約】【課題】 高記録密度化に伴う短波長の記録信号を再生するために狭ギャップレングス化された再生ヘッドにおいて、安定した縦バイアスを供給し、高感度で、且つ安定した再生性能を有する薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 磁気抵抗効果素子の最上部に形成されたフリー磁性層の上に膜厚差による段差を有するバイアス反強磁性膜を成膜形成することによって、膜厚の大きな部分のバイアス反強磁性膜に接しているフリー磁性層の部分の結合磁界を非常に強くし、膜厚の小さい部分のバイアス反強磁性膜に接しているフリー磁性層の部分の結合磁界を小さくできるため、ギャップレングスに関わらずバルクハウゼンノイズが安定して抑えられ、且つ、再生感度を向上できる。

Claim (excerpt)：

下部シールド層と上部シールド層との間に絶縁材を介して磁気抵抗効果素子を有し、前記磁気抵抗効果素子に接して設けられた縦バイアス層と、信号電流を流すための電極リード層からなる磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッドにおいて、反強磁性層、固定磁性層、非磁性導電層及びフリー磁性層からなる磁気抵抗効果素子と、膜厚差による段差のある第1の平面と第2の平面を有するバイアス反強磁性膜と、からなる構成を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。

F-Term (3)：

5D034BA04 ,  5D034BA12 ,  5D034DA07