Pat

J-GLOBAL ID：200903074494534079

基板処理装置

Inventor： 芳谷 光明
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 小谷 悦司 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996088247
Publication number (International publication number)：1997283477
Application date： Apr. 10, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 設備の大型化を抑えた上で、基板の主面の処理液の置換を確実に行わせ得るようにする。【解決手段】 搬送中の基板Bの表裏面に洗浄水Lを供給して所定の処理を施す基板B処理装置において、搬送中の基板Bの少なくとも裏面に幅方向に向けて一方の側端縁から洗浄水Lを吐出する下部処理液吐出手段6bと、この下部処理液吐出手段6bから吐出された洗浄水Lに基板Bを幅方向に横断し得る圧力を付与する昇圧手段とを備えている。

Claim (excerpt)：

搬送中の基板の表裏面に処理液を供給して所定の処理を施す基板処理装置において、搬送中の基板に対し、搬送方向と交差する幅方向の一方側端縁より他方側端縁に向けて斜め下方から処理液を吐出する裏面側処理液吐出手段を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2)：

H01L 21/304 341 C ,  H01L 21/304 341 N