Pat

J-GLOBAL ID：200903074506665395

蛍光層材料及びその製膜方法

Inventor： 中島 昭彦 ,  高田 純
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Agent (1)： 内田 敏彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994059741
Publication number (International publication number)：1995228866
Application date： Feb. 18, 1994
Publication date： Aug. 29, 1995
Summary：

【要約】【目的】 蛍光層の配向性を高めて蛍光強度を大きくできるもので、熱劣化を防止できる新規な蛍光層材料を提供し、及びかかる蛍光層材料の製膜方法として製膜後の材料が不純物を含まず結晶性が良好でしかも制御性の高い製膜方法を提供する。【構成】 蛍光薄膜層3とバッファ層4とを交互にしかも両者間の界面は結晶学的に連なった状態で積層し、さらにバッファ層4の光学的エネルギーギャップを蛍光薄膜層3のそれよりも大きくして励起光によって蛍光薄膜層3内で発生する電子及び正孔を閉じ込める積層構造であり、この積層構造を形成するために、酸素雰囲気中でY及びEuの各金属を所定の原子比率で蒸着するべく制御して蛍光薄膜層3を蒸着等により積層し、さらにCaF2等のバッファ層4を同様に積層して製膜する。

Claim (excerpt)：

Y酸化物及びEu酸化物とからなる蛍光薄膜層と該蛍光薄膜層の光学的エネルギーギャップよりも広い光学的エネルギーギャップを有するバッファ層とが結晶学的に連なった状態で形成されていることを特徴とする蛍光層材料。

IPC (6)：

C09K 11/78 CPB ,  C09K 11/55 CPB ,  C09K 11/61 CPF ,  C23C 14/06 ,  C30B 29/22 ,  H05B 33/14