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J-GLOBAL ID：200903074532289296

露光方法及び露光装置

Inventor： 福田 宏 ,  寺澤 恒男 ,  岡崎 信次
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992334121
Publication number (International publication number)：1994181164
Application date： Dec. 15, 1992
Publication date： Jun. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】 より高度な機能を有するシステムLSIを作製する。【構成】 複数の機能ブロックを含む1個のLSIのマスクパターンをレンズを介して基板上に投影露光する際、上記複数の機能ブロック領域から異なる領域を選択して、選択した領域内のパターンの性質に応じて各々に最適な露光方式を用いて上記基板上に複数回露光する。【効果】 各機能ブロック毎に最も高い解像度を実現することができる。

Claim (excerpt)：

マスク上のパターンをレンズを介して基板上に投影露光することにより1個のLSIの1つの層に対する回路パターンを形成する際、上記マスクは複数のブロックを含み、上記複数ブロックから異なる領域を選択して、上記各領域を各々に最適な露光方式もしくは照明方式を選択的に用いて、上記基板上に複数回露光することを特徴とする露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521