水素ガスの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (9)：三枝英二 , 掛樋悠路 , 小原健志 , 中川博司 , 舘泰光 , 斎藤健治 , 藤井淳 , 関仁士 , 中野睦子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002216188
Publication number (International publication number)：2004059336
Application date： Jul. 25, 2002
Publication date： Feb. 26, 2004
Summary：

【課題】比較的低温で水素を製造する方法を提供すること。【解決手段】脱水素触媒の存在下、水素分圧を下げながら水素含有有機化合物を脱水素反応させることにより水素ガスを生成させることを特徴とする水素ガスの製造方法【選択図】なし

Claim (excerpt)：

脱水素触媒の存在下、水素含有有機化合物を脱水素反応させることにより水素ガスを生成させることを特徴とする水素ガスの製造方法。

IPC (1)：

C01B3/26

FI (1)：

C01B3/26

F-Term (6)：

4G140DA01 , 4G140DA03 , 4G140DB05 , 5H027AA02 , 5H027BA13 , 5H027BA16

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開昭62-269753
脱水素方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-179484 Applicant：住金化工株式会社, エヌ・イーケムキャット株式会社
特開昭63-083033

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