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J-GLOBAL ID：200903074552776991

浴水浄化装置

Inventor： 大坪 寿弘 ,  増田 健治 ,  竹内 浩和 ,  小川 幸春 ,  重田 勇 ,  小佐々 鉄男
Applicant, Patent owner： 株式会社デンソー
Agent (1)： 碓氷 裕彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001052533
Publication number (International publication number)：2002219469
Application date： Feb. 27, 2001
Publication date： Aug. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 入浴時に使用者がカルキ臭による不快感を感じることを防止できる浴水浄化装置を提供すること。【解決手段】 浴槽1内の浴水には、電解槽7により塩素成分を含む浴水を電気分解することにより次亜塩素酸を供給している。浴水の循環回路の一部である配管Fには活性炭濾材111を有する配管Nが併設されており、入浴する所定時間前から、三方弁110を切替制御して浴槽1内の浴水を活性炭濾材111に通過させ、次亜塩素酸を吸着ろ過した後浴槽1内に戻すとともに、電解槽7への通電を停止するようになっている。これにより、次亜塩素酸は浴槽1内の浴水中から除去される。従って、入浴時に使用者がカルキ臭による不快感を感じることを防止できる。

Claim (excerpt)：

浴槽(1)内の浴水に次亜塩素酸を供給する次亜塩素酸供給手段(7)と、前記浴槽(1)内の浴水を通過させて前記次亜塩素酸を吸着ろ過する活性炭濾材(111)とを有し、前記浴槽(1)内に入浴する所定時間前から、前記浴槽(1)内の浴水を前記活性炭濾材(111)に通過させた後前記浴槽(1)内に戻す構成であることを特徴とする浴水浄化装置。

IPC (10)：

C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 532 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 560 ,  C02F 1/50 ,  A47K 3/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/46

FI (11)：

C02F 1/50 510 A ,  C02F 1/50 520 L ,  C02F 1/50 531 M ,  C02F 1/50 532 H ,  C02F 1/50 540 B ,  C02F 1/50 560 B ,  C02F 1/50 560 F ,  A47K 3/00 K ,  A47K 3/00 H ,  C02F 1/28 F ,  C02F 1/46 Z

F-Term (15)：

4D024AA06 ,  4D024AB11 ,  4D024BA02 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024DB09 ,  4D024DB18 ,  4D024DB29 ,  4D061DA07 ,  4D061DB10 ,  4D061EA02 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19