Pat
J-GLOBAL ID:200903074617059575

光触媒の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 祥泰 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998189223
Publication number (International publication number):2000015112
Application date: Jul. 03, 1998
Publication date: Jan. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 多孔質基材に,光触媒成分を高分散にかつ小さな細孔の部分まで担持することのできる,触媒反応効率に優れた光触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】 超臨界流体に光触媒成分3を形成するための光触媒前駆体を溶解させた前駆体流体を作製する溶解工程と,多孔質基材11に上記前駆体流体を接触させるコート工程とにより,上記多孔質基材11に光触媒成分3を担持してなる光触媒1を得る。
Claim (excerpt):
超臨界流体に光触媒成分を形成するための光触媒前駆体を溶解させた前駆体流体を作製する溶解工程と,多孔質基材に上記前駆体流体を接触させるコート工程とにより,上記多孔質基材に光触媒成分を担持してなる光触媒を得ることを特徴とする光触媒の製造方法。
IPC (3):
B01J 35/02 ZAB ,  B01J 21/06 ,  B01J 37/02 301
FI (3):
B01J 35/02 ZAB J ,  B01J 21/06 M ,  B01J 37/02 301 F
F-Term (17):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA07B ,  4G069BA08B ,  4G069BA48A ,  4G069CA10 ,  4G069CA11 ,  4G069CA17 ,  4G069CC33 ,  4G069CC40 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB30 ,  4G069FB80 ,  4G069FC07 ,  4G069ZA11B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)

Return to Previous Page