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J-GLOBAL ID:200903074651970295
クリーム半田材料とそれを用いたリフロー半田付け方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992229629
Publication number (International publication number):1994071478
Application date: Aug. 28, 1992
Publication date: Mar. 15, 1994
Summary:
【要約】【目的】 電子回路基板の製造において、チップ立ちの発生しにくいクリーム半田材料とそれを用いたリフロー半田付け方法の提供を目的とする。【構成】 すず、鉛およびビスマスからなる半田粉末が55〜80重量%、固形フラックスが20〜45重量%、ハロゲンが0.1重量%以下のクリーム半田材料。
Claim (excerpt):
すず、鉛およびビスマスからなる半田粉末が55〜80重量%、固形フラックスが20〜45重量%、ハロゲンが0.1重量%以下からなるクリーム半田材料。
IPC (2):
B23K 35/22 310
, H05K 3/34
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