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J-GLOBAL ID：200903074656007850

4,6-ジアミノレゾルシン類の製造法

Inventor： 河内 淳二 ,  松原 宏知 ,  中原 良典 ,  渡辺 裕
Applicant, Patent owner： 大和化成工業株式会社
Agent (1)： 大石 征郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997275817
Publication number (International publication number)：1998168041
Application date： Oct. 08, 1997
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 ニトロ化合物やハロゲン化合物を経ることなく、しかも置換基の導入に際して高い位置選択性を有しかつ高収率で目的物を得ることのできる4,6-ジアミノレゾルシン類の工業的に有利な製造法を提供することを目的とする。【解決手段】 レゾルシンをアシル化することによりジアシル化物を得る工程A、そのジアシル化物からフリース転位反応により4,6-ジアシルレゾルシンを得る工程B、その4,6-ジアシルレゾルシンをオキシム化してジオキシムを得る工程C、そのジオキシムからベックマン転位反応により4,6-ジアシルアミノレゾルシンを得る工程D、その4,6-ジアシルアミノレゾルシンから加水分解反応により4,6-ジアミノレゾルシンまたはその塩を得る工程Eからなる。工程Dおよび工程Eが、本発明の必須の工程を構成する。

Claim (excerpt)：

下記の式(4)【化1】(Rはアルキル基またはフェニル基)で示されるジオキシムから、ベックマン転位反応により下記の式(5)【化2】(Rは上記と同じ)で示される4,6-ジアシルアミノレゾルシンを得、ついでこの4,6-ジアシルアミノレゾルシンから加水分解反応により下記の式(6)【化3】で示される4,6-ジアミノレゾルシンまたはその塩を得ることを特徴とする4,6-ジアミノレゾルシン類の製造法。

IPC (2)：

C07C215/80 ,  C07C213/02

FI (2)：

C07C215/80 ,  C07C213/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平2-121955
  
• 特開昭61-148149
  
• 特開平2-121955
  
• 特開昭61-148149