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J-GLOBAL ID：200903074661709609

感放射線組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 服部 孝司 ,  上野 巧 ,  今井 彰 ,  須賀 治
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992206433
Publication number (International publication number)：1994051517
Application date： Aug. 03, 1992
Publication date： Feb. 25, 1994
Summary：

【要約】【目的】アルカリ水溶液で現像可能で、膜べりの少ない高感度,高解像度の感放射線組成物、及びそれを用いたポジ型のパターン形成方法を提供する。【構成】側鎖にフェノール性水酸基を含むビニル重合体の水酸基を、部分的にアセタール基により保護した高分子において、その塗膜のアルカリ水溶液中での溶解速度が、0.1nm/s になる保護化率をa%とする場合、保護化率が(a-15)%から(a+15)%の範囲であるような高分子化合物と、活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とするアルカリ水溶液で現像可能なポジ型の感放射線組成物。【効果】本発明の感放射線組成物は、アルカリ水溶液で現像可能で、膜べりの少ない高感度,高解像度のポジ型のパターン形成が可能である。

Claim (excerpt)：

側鎖にフェノール性水酸基を含むビニル重合体の水酸基を、部分的にアセタール基により保護した高分子化合物において、その化合物を用いた塗膜のアルカリ水溶液中での溶解速度が、0.1nm/s になる保護化率をa%とする場合、保護化率が(a-15)%から(a+15)%の範囲であるような高分子化合物と、活性放射線の照射により酸を発生する化合物とを含み、アルカリ水溶液で現像可能であることを特徴とする感放射線組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027