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J-GLOBAL ID：200903074673877655

脱硝装置

Inventor： 小西 智之 ,  和田 敏通
Applicant, Patent owner： バブコック日立株式会社
Agent (1)： 鵜沼 辰之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996330822
Publication number (International publication number)：1998165769
Application date： Dec. 11, 1996
Publication date： Jun. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 混合距離と整流距離とを短くし、コンパクトでかつ脱硝性能の低下を防止する。【解決手段】 触媒層5を内蔵した脱硝反応器4の上流に還元剤注入装置2を配置し、還元剤注入装置2より注入した還元剤を排ガス中の窒素酸化物と反応させる脱硝装置であって、還元剤注入装置2と触媒層5との間にガス流れ方向を仕切る整流格子3,30を配置し、整流格子3,30の少なくとも一つの区域3A内に排ガスと還元剤とのガス混合促進体9,10を設けた。

Claim (excerpt)：

触媒層を内蔵した脱硝反応器の上流に還元剤注入装置を配置し、該還元剤注入装置より注入した還元剤を排ガス中の窒素酸化物と反応させる脱硝装置において、前記還元剤注入装置と前記触媒層との間にガス流れ方向を仕切る整流格子を配置し、該整流格子の少なくとも一つの区域内に前記排ガスと前記還元剤とのガス混合促進体を設けたことを特徴とする脱硝装置。

IPC (4)：

B01D 53/94 ,  B01D 53/56 ,  B01D 53/86 ZAB ,  F23J 15/00 ZAB

FI (5)：

B01D 53/36 101 A ,  B01D 53/34 129 B ,  B01D 53/36 ZAB ,  F23J 15/00 ZAB A ,  F23J 15/00 ZAB H