水処理方法および水処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：須山佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000393572
Publication number (International publication number)：2002192152
Application date： Dec. 25, 2000
Publication date： Jul. 10, 2002
Summary：

【要約】【課題】半導体製造工場、医薬品製造工場、発電所などで用いられる高純度の水質が要求される純水の製造装置に適した、高い水質を得ることができる2段もしくは3段に配置した逆浸透膜装置を有する水処理方法を提供する。【解決手段】軟化装置2、軟化処理水が通水される脱ガス装置3、脱ガス処理水のpHを9.0以上に調整するアルカリ添加装置4、pHを9.0以上に調整された被処理水が通水される第1の逆浸透膜装置5、膜透過水のpHを9.0以下に調整する酸添加装置6、pHが調整された被処理水が通水される第2の逆浸透膜装置7、第1の逆浸透膜装置5の濃縮水を第3の逆浸透膜装置8に通水し、当該逆浸透膜装置からの透過水を第1の逆浸透膜装置5の前段に返送する。

Claim (excerpt)：

被処理水を軟化装置、第1の逆浸透膜装置および第2の逆浸透膜装置に順に通水して純化する水処理方法において、前記第1の逆浸透膜装置の供給水にアルカリを添加してpH9.0以上にするアルカリ添加工程と、前記第2の逆浸透膜装置の供給水に酸を添加する酸添加工程とを有することを特徴とする水処理方法。

IPC (5)：

C02F 1/44 , B01D 61/04 , B01D 61/58 , C02F 1/20 , C02F 1/42

FI (7)：

C02F 1/44 H , C02F 1/44 A , B01D 61/04 , B01D 61/58 , C02F 1/20 A , C02F 1/42 B , C02F 1/42 A

F-Term (39)：

4D006GA03 , 4D006KA02 , 4D006KA03 , 4D006KA52 , 4D006KA53 , 4D006KA54 , 4D006KA55 , 4D006KA63 , 4D006KA64 , 4D006KB11 , 4D006KB12 , 4D006KB13 , 4D006KD11 , 4D006KD17 , 4D006KE15Q , 4D006KE15R , 4D006PA01 , 4D006PB06 , 4D006PB07 , 4D006PC02 , 4D006PC31 , 4D006PC42 , 4D025AA02 , 4D025AA04 , 4D025AA07 , 4D025AB34 , 4D025BA09 , 4D025BA17 , 4D025DA01 , 4D025DA03 , 4D025DA05 , 4D025DA10 , 4D037AA03 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037BB07 , 4D037CA03 , 4D037CA14 , 4D037CA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

逆浸透を使用する高純度の水の製造
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平9-508620 Applicant：ゼノンエンバイロンメンタルインコーポレーテッド
純水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-346526 Applicant：栗田工業株式会社
純水の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-235770 Applicant：栗田工業株式会社

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