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J-GLOBAL ID:200903074732060072

弁装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992226028
Publication number (International publication number):1994074363
Application date: Aug. 25, 1992
Publication date: Mar. 15, 1994
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 超低温流体等の漏洩を完全に防止しながら、長寿命でかつ保冷性能にも優れた弁装置を提供する。【構成】 下部弁軸3b側の空間13は下部シールベローズ14と上部シールベローズ19とにより区画されている。延長ボンネット16の外周には、拡径部16aの下方に下部弁軸3b側の空間13に開口するねじ孔24が形成されており、このねじ孔24にコネクタ25を介してバキュームパイプ26が接続している。バキュームパイプ26はコネクタ31を介して真空ポンプ32に接続している。【効果】 ボデー1の流路1aに流体を流通させる際に、真空ポンプ32を駆動すると、バキュームパイプ26を介して真空引きが行われ、下部弁軸3b側の空間13が真空状態になる。その結果、下部弁軸3b側の空間13には空気(および水分)が存在しなくなるため、下部シールベローズ14が超低温になってもその反流体側表面への結露は発生しなくなる。
Claim (excerpt):
弁箱に対してボンネットを固着し、このボンネットを貫通するようにして軸方向に移動可能に組込まれた弁棒の先端に弁体を取付け、弁口を開閉するようにした弁装置において、上記ボンネット側の固定部および弁軸に対して両端が固着され弁軸を取り囲む配置された上部シールベローズと、弁箱側の固定部および弁体に対して両端が固着され弁軸を取り囲むように配置された下部シールべロースとを備え、上記上部シールベローズと下部シールベローズとの間に密閉した空間を形成し、この空間を真空状態としたことを特徴とする弁装置。
IPC (2):
F16K 41/10 ,  F16K 51/00
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
  • 特公昭40-007699
  • 特開昭53-109223

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