Pat

J-GLOBAL ID：200903074742096059

化学励起沃素レーザー装置の排ガスから希ガスを回収する方法

Inventor： 歳国 正美 ,  柴田 節夫 ,  佐々木 忠志 ,  戸井田 努
Applicant, Patent owner： 日揮株式会社
Agent (1)： 伊藤 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992278136
Publication number (International publication number)：1994104517
Application date： Sep. 22, 1992
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】化学励起沃素レーザー装置の排ガスから高純度の希ガスを効率良く回収し、希ガスの再使用によりレーザー装置のランニングコストを低減することを目的とする。【構成】希ガスと不純物(酸素とハロゲン)を含有する化学励起沃素レーザー装置の排ガスに水素を添加し、触媒の存在下で排ガス中の不純物を除去し易い化合物(水蒸気とハロゲン化水素)に変換し、生成した化合物を排ガスから除去することにより、希ガスを回収することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

希ガスと酸素ガスとハロゲンガスとを含有する化学励起沃素レーザー装置の排ガスから希ガスを回収するに当り、前記排ガスに水素を添加し、触媒の存在下で排ガス中の酸素を水蒸気に転化すると共にハロゲンをハロゲン化水素に転化し、生成した水蒸気とハロゲン化水素を排ガスから除去し、高純度の希ガスを得ることからなる、化学励起沃素レーザー装置の排ガスから希ガスを回収する方法。

IPC (3)：

H01S 3/0951 ,  B01D 53/36 ,  C01B 23/00