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J-GLOBAL ID：200903074834905980

洗浄剤組成物

Inventor： 大越 昌弘 ,  高橋 央治 ,  橋本 克夫
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001009595
Publication number (International publication number)：2002212592
Application date： Jan. 18, 2001
Publication date： Jul. 31, 2002
Summary：

【要約】【課題】油分を多量に含んだトリートメント剤又はサンスクリーン剤等使用後でも泡立ちの良い洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】ドデカン-1,2-ジオール酢酸エーテルナトリウムのようなヒドロキシアルキルエーテルカルボン酸塩型界面活性剤を0.1〜10質量%、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタインを0.1〜10質量%、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウムのようなポリオキシエチレンアルキル硫酸塩型界面活性剤を5〜20質量%配合することを特徴とする洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(I)で表されるヒドロキシアルキルエーテルカルボン酸塩型界面活性剤を0.1〜10質量%、(B)ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタインを0.1〜10質量%、(C)下記一般式(II)で表されるポリオキシエチレンアルキル硫酸塩型界面活性剤を5〜20質量%含有することを特徴とする洗浄剤組成物。【化1】(式中、R1は炭素原子数4〜34の飽和又は不飽和の炭化水素基を表し;X1、X2のいずれか一方は-CH2COOM1を表し、他方は水素原子を表し;M1は水素原子、アルカリ金属類、アルカリ土類金属類、アンモニウム、低級アルカノールアミンカチオン、低級アルキルアミンカチオン、又は塩基性アミノ酸カチオンを表す。)【化2】(式中、R2は平均炭素原子数8〜20の飽和又は不飽和の炭化水素基を表し;M2はアルカリ金属類、アルカリ土類金属類、アンモニウム又は有機アミン類を表し;nは1〜5の数を表す。)

IPC (7)：

C11D 1/06 ,  A61K 7/02 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/29 ,  C11D 1/90 ,  C11D 1/94

FI (7)：

C11D 1/06 ,  A61K 7/02 A ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1/29 ,  C11D 1/90 ,  C11D 1/94

F-Term (27)：

4C083AC122 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC392 ,  4C083AC642 ,  4C083AC711 ,  4C083AC712 ,  4C083AC781 ,  4C083AC782 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083EE09 ,  4H003AB05 ,  4H003AB31 ,  4H003AC13 ,  4H003AD04 ,  4H003BA12 ,  4H003BA15 ,  4H003DA02 ,  4H003EB09 ,  4H003EB42 ,  4H003ED02 ,  4H003FA02 ,  4H003FA18