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J-GLOBAL ID：200903074837269260

レーザマーカ

Inventor： 武久 究 ,  矢野 眞 ,  桑原 皓二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991192861
Publication number (International publication number)：1993034927
Application date： Aug. 01, 1991
Publication date： Feb. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】レーザ光をパターン形成用の液晶マスクに通し、液晶マスク上のパターンを被加工物体表面上に転写させる際、フォトレジストなど紫外光のみに感光する物質にもマーキングできるレーザマーカを提供する。【構成】レーザマーカ11では、YAGレーザ発振器1から発振する基本波を、非線形光学素子3aに通して、第二高調波を発生させ、これと残留基本波とを、液晶複合体から成る液晶マスク5に通してから、第二の非線形光学素子3b中に集光させて、発生する紫外光である第三高調波により、液晶マスク5のパターンを、フォトレジスト板6に転写させる。

Claim (excerpt)：

レーザ光をパターン形成用の液晶マスクに通し、前記液晶マスク上の前記パターンを被加工物体の表面上に転写させるレーザマーキングにおいて、前記液晶マスクに入射させる前記レーザ光が、波長1.064μmと波長0.532μmとの二つの波長を含み、かつ、前記液晶マスクから出射する前記レーザ光が、非線形光学素子に入射することを特徴とするレーザマーカ。

IPC (6)：

G03F 7/20 505 ,  G02F 1/13 505 ,  G02F 1/37 ,  G03F 1/08 ,  H01L 23/00 ,  H01S 3/108